受日本出臺半導體出口管制措施影響，今日半導體設(shè)備、光刻膠、存儲芯片等板塊表現(xiàn)不錯。

截至發(fā)稿，光刻膠板塊，容大感光20CM漲停，格林達漲停，南大光電、晶瑞電材漲超8%。

【資料圖】

半導體設(shè)備板塊，富樂德20CM漲停，耐科裝備、華海清科漲超8%，盛美上海、芯源微、長川科技、拓荊科技等跟漲。

存儲芯片板塊，朗科科技觸及20CM漲停，萬潤科技、睿能科技、恒爍股份漲停，大為股份、江波龍漲超6%。

日本限制半導體設(shè)備出口

5月23日，日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省發(fā)布省令，正式出臺針對23種半導體制造設(shè)備（或物項）的出口管制措施，并將于7月23日開始實施。

雖然該管制措施并未把中國等指定為限制對象，但追加的23個品類除了向友好國等42個國家和地區(qū)出口外，均需要單獨得到批準。事實上，這意味著這些品類很難向中國等國家出口。

23個品類包括清洗、熱處理、蝕刻等設(shè)備，以及極紫外（EUV）相關(guān)產(chǎn)品的制造設(shè)備和三維堆疊存儲器的蝕刻設(shè)備等。按運算用邏輯半導體的性能來看，均屬于制造10-14納米以下的尖端產(chǎn)品所需設(shè)備。

據(jù)中信證券梳理，23種半導體制造設(shè)備（或物項）主要包括：

1）光刻（4項）：ArF浸沒式光刻機、用于EUV光刻的涂膠顯影設(shè)備、用于EUV光刻的光罩護膜（清單中唯一一種非設(shè)備品種，用于EUV光罩的配套）及其生產(chǎn)設(shè)備。其中EUV光刻機（僅荷蘭ASML提供）的采購國內(nèi)長期受限，日本限制EUV配套產(chǎn)品沒有實質(zhì)影響，而ArF浸沒式光刻機日本尼康有相關(guān)產(chǎn)品，未來需觀察許可實際發(fā)放情況。
2）刻蝕（3項）：高深寬比刻蝕、硅鍺刻蝕等。
3）薄膜沉積（11項）：用于鈷、鎢、鉬、釕等金屬薄膜、Contact層、Low-k等介質(zhì)、掩膜版、硅和硅鍺外延等沉積的PVD/CVD/ALD/EPI薄膜沉積設(shè)備。
4）熱處理（1項）：用于銅、鈷、鎢的低壓退火設(shè)備。
5）清洗（3項）：銅膜清洗、干法清洗、晶圓改性后干燥的單片濕法清洗。
6）檢測（1項）：EUV光刻掩膜版檢測設(shè)備。

其實早在今年3月，就有日本限制半導體出口的消息，如今算是正式落地了。

3月31日，日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔宣布，日本將修訂出口管制令，包括先進的半導體制造設(shè)備在內(nèi)的23種物品將被列入受出口管制的物品清單。

再加上此前荷蘭限制高端光刻機出口，可以說，自主安全對于中國半導體行業(yè)來說越發(fā)重要，國產(chǎn)替代勢在必行。

此外，日前，國家網(wǎng)信辦發(fā)布公告，美光在華銷售的產(chǎn)品未通過網(wǎng)絡安全審查。按照《網(wǎng)絡安全法》等法律法規(guī)，我國內(nèi)關(guān)鍵信息基礎(chǔ)設(shè)施的運營者應停止采購美光公司產(chǎn)品。這在一定程度上也加速存儲芯片國產(chǎn)化。

國產(chǎn)替代加速

對于日本本次出臺的政策，中信證券認為，本次出口限制主要針對先進半導體制造，否則若日本對華成熟芯片相關(guān)的半導體設(shè)備也實際施加限制，則將會影響日本相關(guān)設(shè)備公司的營收，長期削弱日本在半導體設(shè)備領(lǐng)域的份額優(yōu)勢，同時中國本土技術(shù)生態(tài)鏈有望在重壓下加速本土替代。

從產(chǎn)業(yè)安全角度，中信證券建議，重點關(guān)注設(shè)備、零部件、材料、高端芯片等易“卡脖子”環(huán)節(jié)，有望獲得政策推動。短期來看，建議關(guān)注日本及荷蘭廠商占有領(lǐng)先地位的、并能夠?qū)崿F(xiàn)國產(chǎn)替代的設(shè)備/材料環(huán)節(jié)；長期來看，建議關(guān)注受益國產(chǎn)替代加速的設(shè)備、零部件、材料、高端芯片等各環(huán)節(jié)的相關(guān)公司。

1）半導體設(shè)備/零部件：芯源微、中微公司、拓荊科技、北方華創(chuàng)、富創(chuàng)精密、盛美上海、華海清科、精測電子、至純科技、華峰測控、長川科技等；
2）封測：長電科技、通富微電、甬矽電子、華天科技等；
3）高端芯片：龍芯中科、海光信息、寒武紀、景嘉微等；
4）制造：中芯國際（A/H）、華虹半導體（H）等。

浙商證券認為，半導體產(chǎn)業(yè)鏈自主可控是長期主線，設(shè)備及零部件國產(chǎn)替代迎來加速期，并預計今年半導體行業(yè)資本開支上行，設(shè)備訂單有望超市場預期，國產(chǎn)設(shè)備獲得大規(guī)模驗證機會，國產(chǎn)化率有望加速提升。建議關(guān)注美日荷占據(jù)領(lǐng)先地位且國產(chǎn)化率較低的環(huán)節(jié)，如涂膠顯影、原子層沉積、離子注入、量測設(shè)備等。

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