(相關(guān)資料圖)
3月9日上午,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)發(fā)布聲明表示,ASML預(yù)計(jì)必須申請(qǐng)?jiān)S可證方可出口DUV設(shè)備。同時(shí)公司還表示“新的出口管制措施并不針對(duì)所有浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng),先進(jìn)程度相對(duì)較低的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)已能很好滿(mǎn)足成熟制程為主的客戶(hù)的需求。”荷蘭政府在3月8日表示,計(jì)劃對(duì)半導(dǎo)體技術(shù)出口實(shí)施新的管制。據(jù)悉,決定是由荷蘭貿(mào)易部長(zhǎng)Liesje Schreinemacher在致荷蘭議會(huì)的一封信中宣布的。信中稱(chēng),這些管制措施將在今天夏天之前開(kāi)始實(shí)施。信中還指出“荷蘭認(rèn)為有必要以最快的速度對(duì)這項(xiàng)技術(shù)進(jìn)行監(jiān)管,因此荷蘭政府將會(huì)盡快出臺(tái)一份國(guó)家管控清單”。(第一財(cái)經(jīng))
關(guān)鍵詞:
責(zé)任編輯:QL0009